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3.9 退火-优化
huangqq 284
3.5 热扩散工艺的条件和方法-优化
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3.3 氧化层质量及检测-优化
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3.2 硅的热氧化-优化
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3.1 热氧化概念及二氧化硅薄膜概述-优化
huangqq 288
2.4 分子束外延与其他外延方法
huangqq 904
第二章讲义
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2.4 分子束外延与其他外延方法--优化
huangqq 933
2.3 气相外延--优化
huangqq 934
2.2 硅衬底的制备--优化
huangqq 928
2.1 单晶硅特性-优化
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2.3 气相外延
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2.2 硅衬底的制备
huangqq 1000
2.1 单晶硅特性
huangqq 1170